ASML示警 晶片製造設備短缺

英國金融時報（FT）報導，半導體曝光機大廠荷商艾司摩爾（ASML）執行長韋尼克（Peter Wennink）表示，由於供應鏈跟不上增產腳步，未來兩年關鍵晶片製造設備可能短缺，從而阻礙半導體業規模數十億美元的擴產計畫。

業界人士認為，隨著業界取得機台擴產腳步蹣跚，晶圓代工產能供不應求態勢將會延續，短期內仍無解。

艾司摩爾是全球最大半導體曝光機供應商，其生產的極紫外光（EUV）機台，是台積電、英特爾、三星發展先進製程必備的設備，同時也提供成熟製程所需的深紫外光（DUV）機台，供聯電、格芯、世界、中芯等業者使用。

韋尼克的一席話，不僅意味這些半導體巨頭在先進製程的激戰可能受影響，也意味整體半導體晶圓製造供過於求的態勢，也將因業者擴產不順而持續蔓延，台積電、聯電等晶圓代工業者訂單滿手的盛況將延續。

韋尼克警告：「明年和後年會出現（設備）短缺。我們今年的機械出貨量會比去年多...明年將比今年多，但若看需求曲線，數量並不夠。我們必須大幅提高產能達到50%以上。那需要時間。」

韋尼克說，艾司摩爾正與供應商一起評估如何提高產能。目前還不清楚需要的投資規模。艾司摩爾有700家產品相關的供應商，其中200家至關重要。

此時正值半導體產業加速投資擴產，以解決全球晶片荒，並滿足激增的需求。分析師預估，到2030年時，半導體市場規模將擴增一倍至1兆美元。

美歐各國都計劃提供數百億美元支持晶片製造，以降低對亞洲晶圓廠的倚賴。

美國英特爾（Intel）執行長基辛格承認，設備短缺成為該公司擴產規畫的挑戰，但他強調還有時間可以解決問題，因為興建廠房要兩年，第三、四年才開始添置設備。

韋尼克同意仍有時間可擴產，許多新設備要到2024年才會上線。但他也說，事情沒有那麼簡單，例如艾司摩爾最複雜的零組件是德國蔡司（Carl Zeiss）生產的光學鏡片，若蔡司要大幅增產，必須加蓋廠房，就得先申請許可、再著手設廠，工廠蓋好後，還要訂購生產設備，僱用人手等等，整個過程環環相扣，「需時超過12個月」。