半導體新眼睛 衝製程良率

經濟日報 記者李珣瑛／台北報導

半導體製程持續微縮，量產技術已達14奈米，半導體大廠更朝10奈米、7奈米邁進，連5奈米也在規劃中。然而，在製程良率的提升上，半導體業者卻可能面臨「看不見」的難題。 工研院與台積電合作開發的「新世代溶液中奈米微粒監控系統」，就是這雙新眼睛。

在半導體濕式製程中，晶圓表面的清洗、蝕刻與研磨皆需仰賴特定化學溶液進行，而溶液中奈米粒子的尺寸與分布會影響晶圓電路圖案（pattern)的製程結果，因此必須持續監控溶液中粒子大小及數量，只要發現溶液粒子不符規格，就要馬上暫停及更換，以維持產品良率。

工研院量測技術發展中心何信佳博士指出，傳統的雷射光學設備「看不到」化學溶液中40奈米以下的微粒，因此，半導體業者需擁有一雙能真正看得到更小微粒的「新眼睛」。

台積電想利用量測氣體粒子的方法量測製程化學溶液，且必須能夠24小時連續在產線上進行監測。台積電先是向美國知名研發機構NIST求援，該機構專家轉而向台積電推薦曾在2010年前往NIST研究的何信佳。

何信佳及團隊成員終將實驗室用的技術轉換為工廠用的設備。