成大GLORIA漢諾威參展 工業4.1展技術能量

經濟日報 張傑

2019德國漢諾威工業展日前開展，成功大學國際產學聯盟GLORIA偕同成大智慧製造研究中心主任鄭芳田教授、機械系李永春教授技術團隊參展，展出智慧製造雲端服務系統「工業4.1」方案，能做到產品接近零缺陷境界，以及可應用於半導體積體電路、IC封裝等的「高精度無光罩式UV曝光機」，展現成大學術與產業結合的能量與實力。

由成大智慧製造研究中心主任鄭芳田教授所提出的「工業4.1」方案，除了將工業4.0系統平台，結合全自動虛擬量測技術、智慧型預測保養、智慧型良率管理及先進製造物聯雲等技術，其自動虛擬量測技術亦可即時提供所有產品檢測資訊，發現缺陷即可剔除不交貨，所有交貨產品零缺陷。

而被剔除的瑕疵品，亦可應用關鍵參數搜尋演算法，來找出產生缺陷的主要原因，根本解決，並持續改善，如此就可使所有生產產品接近零缺陷的境界。

鄭芳田教授指出，「工業4.1」方案，已運用於多家半導體、面板和太陽能等高科技產業的廠商，也推廣到汽車輪圈、航太、吹瓶機、電動黃油槍及碳纖等相關傳統機械產業廠商。

成大在智慧製造研究中心主要負責主導與協調4大研究組別，包括E化製造，性能與品質穩健優化研究，3D金屬積層製造研究，以及巨量資料、機器學習、大數據分析管理等。各研究組別亦提供關鍵技術共同完成「智慧製造系統」實作，同時也成立國際合作組，將技術推至國外，並設人才培育組，開設智慧製造系統證照班，培養智慧製造人才。

此外，機械系李永春教授所研發的「高精度無光罩式UV曝光機」，可應用於半導體積體電路、IC封裝、印刷電路板等，還可延伸到平面顯示器、發光二極體、光通訊、光電元件等相關產業。

李永春教授表示，目前國內IC載板、先進封裝產業，其無光罩式微影製程技術受到大廠壟斷，「高精度無光罩式UV曝光機」將可提供國內業者新的選擇，該技術也技轉新創公司，成為台灣首家可以技術自主與自有品牌的無光罩曝光機生產製造廠商。

李永春教授在展覽中，也展示無光罩式UV曝光機應用於滾筒模仁製程技術，與奈米壓印微影技術，以自行建置的準分子雷射微加工機台，製造關鍵零組件，通過精確的機械對位和精準控制滾筒的旋轉和平台縱向掃描，可以在光阻層上，實現任意的紫外光圖案。

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經濟日報